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光刻胶、配套试剂及相关化学品；

厚胶系列光刻胶、配套显影液、去胶液、稀释增粘剂、HMDS等各种光刻耗材

厚  胶
型号	光源	类型	分辨率	厚度（um)	适用范围
SU-8 GM10xx系列	g/h/i-Line	负性	0.1um	0.1-200	具有最大的高宽比，透明度高，垂直度极好。
SU-8 Microchem	g/h/i-Line	负性	0.5um	0.5-650	具有最大的高宽比，透明度高，垂直度极好。
SPR220	g/h/i-Line	正性	1um	1—30	可用于选择性电镀电镀，深硅刻蚀等工艺。
AZ  P4620	g/h/i-Line	正性	0.1um	10-15	高对比度，高感光性，高粘附性，适用于半导体和微电镀。

三、光刻胶、配套试剂及相关化学品；

SU-8全系列光刻胶、配套显影液、去胶液、稀释增粘剂、HMDS等各种光刻耗材；

产品名称：美国Microchem SU-8光刻胶

产品内容：

SU- 8光刻胶是一个高对比度，环氧基光刻胶专为微加工和微电子等的应用需要的厚胶，化学和热稳定的图像. SU-8 2000是一种改进的配方的SU- 8，SU-8已被广泛用于通过MEMS制造多年。使用更快的干燥技术，极性更大的溶剂的系统改进了涂层质量，并增加了处理量. SU- 8 2000有12个标准粘度. 膜厚度的0.5到> 200微米可以通过一个单一的涂层过程实现。曝光和随后的膜热交联的部分不溶于液体显影剂。 SU- 8光刻胶有优秀的成像特性，并能产生非常高的纵横比结构。 SU- 8光刻胶具有非常高的光传输性高于360纳米，这使得它非常适合在很厚的薄膜附近的垂直侧壁成像。SU-8光刻胶很适合永久性应用中成像，固化并留在设备上.

SU-8 光刻胶 特点：

? 高纵横比成像

? 0.5至>200μm的膜厚在单一的涂层

? 改进涂料性能

? 快速干燥增加处理量

? 近紫外线（350-400nm）的处理

? 垂直侧壁

Microchem SU-8  2025-2075-2150  同等转速，厚度逐渐提高，可根据自己实验需求选择具体的型号。目前SU-8光刻胶有2000系类和3000系列两类产品，3000系列升级后对光刻胶的粘附力，产品精度等性能进一步完善。

SU-8光刻胶             品牌：gersteltec

品牌： 瑞士GES公司提供多种不同组成的、基于IBM开发的环氧树脂胶SU-8光刻胶；

应用：GES公司光感环氧树脂光刻胶包括先进的功能性SU-8光刻胶满足并超越世界领先微系统器件厂商的需要，在半导体工业、微纳米技术应用领域具有较强的优势。使用传统UV光刻技术等对超厚SU-8及功能性SU-8光刻胶进行图案化，广泛用于MEMS、MOMES、UV-LIGA、显示器、柔性显示器、微流道、生物医学、半导体、封装、太阳能、光子晶体、微燃料电池等领域。
GES公司开发的SU-8及功能性SU-8光刻胶主要用于需要甩胶厚度大、高深宽比并且垂直侧壁形状的应用；能够使用几种不同光刻技术如X射线、紫外及电子束曝光等进行图案制作。

1、GM1010和GM1020 电子束曝光应用

瑞士GES SU-8系列光刻胶	GM1010
	GM1040
	GM1050
	GM1060
	GM1070
	GM1075